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Título: Análisis de los efectos causados por irradiación de un haz de electrones de 1 a 10 keV sobre películas de grafeno.
Autor: Moyano Quishpe, Karla Estefanía
Palabras clave: ELECTRONES
ÓXIDO DE GRAFENO
RESISTENCIA LAMINAR
MECÁNICA
Fecha de publicación: mar-2023
Editorial: Quito : EPN, 2023.
Citación: Moyano Quishpe, K.E.(2023). Análisis de los efectos causados por irradiación de un haz de electrones de 1 a 10 keV sobre películas de grafeno. 59 páginas. Quito : EPN.
Resumen: Graphene-based materials are currently widely studied due to their unique properties. In the present research work, graphene oxide was synthesized by electrochemical exfoliation of graphite sheets. With the obtained material, thin films were made on glass and irradiated with an electron beam varying the energy from 0.5 keV to 10 keV. A reduction in sheet resistance was observed in the irradiated films when the energy of the electrons increased. In this way, a maximum reduction of 17.28 % of the sheet resistance was obtained when a sample was irradiated with 10 keV for 30 min. The ID/ID' ratio was below 3.5 for all Raman spectra before and after irradiation, which showed the existence of edge defects present in graphene oxide. Whereas, in most cases, the ID/IG ratio is reduced when the irradiation energy is increased. On the other hand, FTIR and XPS spectra showed a reduction of oxygenated functional groups after irradiation. The results suggest that there is a reduction of graphene oxide after irradiation with the electron beam, which increases the conduction of the material.
Descripción: Los materiales basados en grafeno son ampliamente estudiados en la actualidad debido a las propiedades únicas que poseen. En el presente trabajo de investigación se sintetizó óxido de grafeno mediante la exfoliación electroquímica de láminas de grafito. Con el material obtenido, se elaboraron películas delgadas sobre vidrio y se irradiaron con un haz de electrones variando la energía desde 0.5 keV a 10 keV. Se observó una reducción de la resistencia laminar en las películas irradiadas cuando la energía de los electrones aumenta. De esta manera, se obtuvo una reducción máxima de 17.28 % de la resistencia laminar cuando se irradió una muestra con 10 keV durante 30 min. La relación ID/ID’ estuvo por debajo de 3.5 para todos los espectros Raman antes y después de la irradiación, lo que mostró la existencia de defectos de borde presentes en el óxido de grafeno. Mientras que, en la mayoría de los casos, la relación ID/IG se reduce cuando se aumenta la energía de irradiación. Por otro lado, los espectros FTIR y XPS mostraron una reducción de los grupos funcionales oxigenados después de la irradiación. Los resultados sugieren que existe una reducción del óxido del grafeno después de la irradiación con el haz de electrones, lo que aumenta la conductividad del material.
URI: http://bibdigital.epn.edu.ec/handle/15000/23694
Tipo: bachelorThesis
Aparece en las colecciones:Tesis Maestría en Materiales, diseño y producción (FC)

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